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Apreo 场发射扫描电镜
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发布日期:2019-05-20
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详细介绍

全面实现纳米或亚纳米分辨性能,从纳米颗粒,粉末,催化剂和纳米器件到块状磁性样品等材料。

·最有效的背散射电子探测始终可保证良好的材料衬度,即使是以低电压和小束流并以任何倾斜角度对电子束敏感样品进行 TV 速率成像是也不例外。

·无比灵活的探测器可将各个探测器分割提供的信息相结合,让用户能够获得至关重要的对比或信号强度。

·各种各样的荷电缓解策略,包括样品仓压力最高为 500 Pa 的低真空模式,可实现任何样品的成像。

·卓越的分析平台提供高电子束电流,而且束斑很小。仓室支持三个 EDS 探测器、共面的 EDS 和 EBSD 以及针对分析而优化的低真空系统。

·样品处理和导航极容易,具有多用途样品支架和 Nav-Cam+。

·通过高级用户指导、预设和撤消功能为新用户提供专家级结果。


电子束分辨率 ,最佳工作距离:


载物台和样品:




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