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PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统
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发布日期:2019-05-20
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全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品,可以得到无损的表面、横截面和镀层,以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。

  • 只需一次抽真空,就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
  • 在低至 100 伏的电压下刻蚀,从而快速地得到无损样品表面
  • 可制备直径高达 32 毫米的样品
  • 在不暴露于空气的情况下,将样品从 PECS? II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中(可选)
  • 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph? 软件存储和分析图像,数字光学成像
  • 集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数


  • 更多详细参数请致电咨询!


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